四氟化碳（CF₄）

 主要用途:
    在常温下 , 四氟化碳是无色、无臭、不燃的可压缩性气体，挥发性较高，是最稳定的有机化合物之一，在 900 ℃时，不与铜、镍、钨、钼反应，仅在碳弧温度下缓慢分解，微溶于水，在25℃及0.1Mpa下其溶解度为0.0015%(重量比),然而与可燃性气体燃烧时,会分解产生有毒氟化物。
    四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体 ,其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合气,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。