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四氟化碳(CF4 Tetrafluoromethane;Carbon Tetrafluoride) CAS:75-73-0
| 項目 |
指標純度% |
| 四氟化碳(cf4) |
99.999% |
99.9997% |
99.99994% |
| 雜質含量 |
氮氣 |
﹤5ppm |
﹤1ppm |
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| 氧氣 |
﹤2ppm |
﹤0.5ppm |
﹤100ppb |
| 氬氣 |
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﹤20ppb |
| 氫氣 |
|
﹤0.5ppm |
﹤100ppb |
| 總烴 |
﹤1ppm |
﹤0.1ppm |
﹤50ppb |
| 一氧化碳 |
﹤1ppm |
﹤0.1ppm |
﹤50ppb |
| 二氧化碳 |
﹤1ppm |
﹤0.25ppm |
﹤100ppb |
| 水 |
﹤2ppm |
﹤1ppm |
﹤200ppb |
*注:產品參數僅供參考,在保證產品純度下,供方有可能根據原料參數變化而改變產品的參數,不再另行通知 包 裝: 采用GB 鋼瓶或DOT鋼瓶,也可分裝。 主要用途: 在常溫下 , 四氟化碳是無色、無臭、不燃的可壓縮性氣體,揮發性較高,是最穩定的有機化合物之一,在 900 ℃時,不與銅、鎳、鎢、鉬反應,僅在碳弧溫度下緩慢分解,微溶于水,在25℃及0.1Mpa下其溶解度為0.0015%(重量比),然而與可燃性氣體燃燒時,會分解產生有毒氟化物。 四氟化碳是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體 ,其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合氣,可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產、激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態、印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。 化學品安全技術說明書(MSDS)下載: 四氟化碳
 
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