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在常温常压下 , 三氟化氮为无色、无臭、性质稳定的液化气体，高纯三氟化氮几乎没有气味，它是一种热力学稳定的氧化剂，大约在 350 ℃左右可离解成为二氟化氮和氟气，故其反应性 相似于氟。三氟化氮用作氧化剂时，在发生反应的同时，可作为二氟化氮游离基的供给源。
三氟化氮主要用途是用作氟化氢 ----氟化氘高能化学激光器的氟源，在H2—O2与F2之间反应能的有效部分（约25%）可以以激光辐射释放出，所以HF—OF激光器是化学激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅蚀刻，采用三氟化氮 比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染，尤其是在厚度小于1.5mm的集成电路材料的蚀刻中,NF3具有非常优异的蚀刻速率和选择性,在被蚀刻物表面不留任何残留物,同时也是非常良好的清洗剂.随着纳米技术的发展和电子工业大规模的发展技术,它的需求量将日益增加。
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: 四氟化碳